
二手 KARL SUSS MA8 光刻机是一款专为微纳加工设计的双面接触式掩模对准系统,核心定位是解决晶圆正反面图形精准匹配难题,广泛适配科研实验室、中小批量生产场景,尤其在 MEMS、先进封装、化合物半导体等领域具备不可替代性。其二手设备经规范维护后,仍能保留核心光学与机械性能,满足中高端工艺对对准精度和图形转移质量的要求。
核心性能参数清晰可查,精准支撑工艺实现:1. 对准精度,正面对准精度优于 ±0.5μm,背面对准精度优于 ±1.0μm,可实现全自动非接触式厚度补偿,保障双面对准稳定性;2. 晶圆兼容性,支持 2-8 英寸全规格晶圆及不规则碎片,适配主流衬底尺寸;3. 曝光性能,分辨率可达 0.8μm,曝光场尺寸≥22×22mm,光强均匀度不高于 ±4%,支持硬接触、软接触、接近式及真空曝光四种模式;4. 光源与工艺适配,搭载 350-450nm 波长光源(汞灯或 UV LED),支持恒定光强 / 功率模式,可实现 30μm 以下厚胶曝光,兼容 SU-8 等特种光刻胶。
该设备的实用性集中体现在细分场景的精准适配。在 MEMS 制造中,其双面对准能力可满足压力传感器、陀螺仪等器件的正反面结构加工,确保敏感元件与电路层的精准对接;在先进封装领域,适配 TSV(硅通孔)工艺的背面对准需求,助力 3D 集成器件的微型化发展;在化合物半导体领域,可兼容 GaN、SiC 等特殊衬底,支持中小批量芯片的图形转移。二手设备凭借成熟的技术架构,既能满足科研阶段的多工艺探索,也能适配量产环节的稳定输出,是平衡成本与性能的优质选择。
作为二手半导体设备中的 “细分领域主力”,KARL SUSS MA8 的核心价值在于保留了高端双面光刻的关键性能,无需复杂调试即可快速融入现有产线。对于关注特定工艺适配性的用户而言,其参数优势与场景兼容性使其成为性价比之选。
#接触式光刻机#
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